JOPSS:検索結果一覧

論文

Interface atom mobility and charge transfer effects on CuO and Cu $_{2}$ O formation on Cu $_{3}$ Pd(111) and Cu $_{3}$ Pt(111)

津田泰孝; Gueriba, J. S.*; 牧野隆正*; Dio, W. A.*; 吉越章隆; 岡田美智雄*

Scientific Reports (Internet), 11, p.3906_1 - 3906_8, 2021/02

https://doi.org/10.1038/s41598-021-82180-w

被引用回数：3 パーセンタイル：16.03(Multidisciplinary Sciences)

We bombarded Cu $_{3}$ Pd(111) and Cu $_{3}$ Pt(111) with a 2.3 eV hyperthermal oxygen molecular beam (HOMB) source, and characterized the corresponding (oxide) surfaces with synchrotron-radiation X-ray photoemission spectroscopy (SR-XPS). At 300 K, CuO forms on both Cu $_{3}$ Pd(111) and Cu $_{3}$ Pt(111). When we increase the surface temperature to 500 K, Cu $_{2}$ O also forms on Cu $_{3}$ Pd(111), but not on Cu $_{3}$ Pt(111). For comparison, Cu $_{2}$ O forms even at 300 K on Cu(111). On Cu $_{3}$ Au(111), Cu $_{2}$ O forms only after 500 K, and no oxides can be found at 300 K. We ascribe this difference in Cu oxide formation to the mobility of the interfacial species (Cu/Pd/Pt) and charge transfer between the surface Cu oxides and subsurface species (Cu/Pd/Pt).

論文

Synchrotron radiation photoelectron spectroscopy study on oxides formed at Ge(100)21 surface in atmosphere

吉越章隆

Japanese Journal of Applied Physics, 59(SM), p.SMMB05_1 - SMMB05_5, 2020/07

https://doi.org/10.35848/1347-4065/ab8f0b

被引用回数：0 パーセンタイル：0(Physics, Applied)

本研究では、UHV条件で準備した清浄Ge(100)21表面を空気中に晒された時に形成される酸化物のシンクロトロン放射光電子分光法(SR-XPS)による分析結果を示す。高エネルギー分解能のSR-XPSによってGe表面に形成されるGe酸化物の詳細な化学状態が明らかにされた。大気中の水蒸気がGe表面をゆっくりと酸化するという証拠を明らかにできた。この研究は、Ge表面に形成される酸化物の形成メカニズムの理解に役立つと期待される。

論文

放射光時分割X線光電子分光法と超音速酸素分子ビームを組み合わせた表面反応のダイナミクス研究への応用

吉越章隆

X線光電子分光法, p.271 - 282, 2018/12

高桑雄二編著「X線光電子分光法」(講談社サイエンティフィク)の第5.10章に放射光時分割X線光電子分光と超音速酸素分子線を使ったSi単結晶表面酸化の酸素分子の吸着反応ダイナミクスに関する著者の研究を中心に解説する。

論文

Initial oxidation states on Si(001) surface induced by translational kinetic energy of O $_{2}$ at room temperature studied by Si-2p core-level spectroscopy using synchrotron radiation

吉越章隆; 寺岡有殿

Surface Science, 482-485(Part.1), p.189 - 195, 2001/06

シリコン表面上への酸素吸着メカニズムに関する研究は、表面基礎科学としての興味ばかりでなく、半導体デバイス作製技術として多く行われてきた。理論計算の示すところでは、化学吸着過程におけるポテンシャルエネルギー障壁は、1.0eVe以上と言われている。しかし、分子線を用いたこのエネルギー領域におけるSi(001)表面上の酸素化学吸着のダイナミクスの研究は、ほとんど行われていない。並進運動エネルギーが3.0eV以下の領域で、酸素吸着に関するエネルギー障壁を実験的に明らかにした。すべての実験は、SPring-8に設置された表面反応分析装置で行われた。並進運動エネルギーが、1.0eVと2.6eVに化学吸着の閾値が見いだされた。この閾値前後の並進運動エネルギーで酸化された表面を放射光光電子分光で調べたところ、それぞれ異なる化学吸着状態をとることを明らかにした。

論文

Adsorbate-substrate interaction in photofragmentation of trimethylsilylfluoride (Si(CH $_{3}$ ) $_{3}$ F) physisorbed on Cu(111) following Si K-Shell excitation

関口哲弘; 馬場祐治

Surface Science, 433-435, p.849 - 853, 1999/00

https://doi.org/10.1016/S0039-6028(99)00041-2

被引用回数：14 パーセンタイル：61.16(Chemistry, Physical)

内殻励起領域でのイオン脱離反応における吸着環境の影響を調べた。試料としてSi-F結合とSi-C結合の選択励起のできるSi(CH $_{3}$ ) $_{3}$ F(SiMe $_{3}$ F)を使用し、低温冷却したCu表面上にSiMe $_{3}$ Fを吸着量を制御して吸着させた。Si K殻励起領域の脱離イオン収量スペクトル及び質量スペクトルを種々の吸着量について測定した。単分子吸着系では軽いイオンが観測され、 $_{Si-F}$ 空軌道への共鳴励起によりF $^{+}$ 脱離収量が増加した。多層吸着では重いイオンが顕著に脱離し、収量の励起エネルギー依存性がほとんどない。単分子吸着系では基板との相互作用による脱励起過程が顕著であることにより励起状態の反結合性がより重要となる。多分子層ではイオン収量は終状態の性質よりむしろ平均電荷数により決まる。約3分子層吸着すると生成物パターンは大きく変化した。これは吸着種-基板間相互作用から分子間相互作用に敏感に変化したことを示す。

論文

A SIMS study on secondary ion formation during low-enrgy methyl ion beam deposition

大野秀樹*; 青木康; 永井士郎

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 108, p.75 - 80, 1996/00

https://doi.org/10.1016/0168-583X(95)00872-1

被引用回数：2 パーセンタイル：31.89(Instruments & Instrumentation)

100eV以下の炭化水素イオンCH $_{3+}$ とCD $_{3+}$ を用いてSi(III)基板上に常温で薄膜形成を行い、照射中に生成される2次イオンを2次イオン質量分析法(SIMS)で観測し、薄膜形成の素過程である入射イオンビームと基板表面との相互作用の入射エネルギー依存性に関する知見を得た。実験結果から、入射エネルギー30eVを境にして2次イオン生成の過程が異なることが明らかにされた。30eV以上では物理的過程により生成されるのに対し、それ以下では化学的過程、すなわち化学反応を伴い生成される。また、形成された薄膜も30eV以下では残留ガスの影響をあまり受けずに形成されることが分かった。

論文

Endowment with the wettability on the surface of tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer by excimer laser irradiation

岡田淳*; 根岸靖雄*; 清水雄一; 杉本俊一*; 西井正信; 河西俊一

Chemistry Letters, 1993, p.1637 - 1638, 1993/00

溶融成型が可能なフッ素樹脂であるテトラフルオロエチレン-パーフルオロアルキルビニルエテール共重合体(PFA)表面への親水性付与を目的として、ArFレーザー光照射によるPFAの表面化学反応を調べた。その結果、一酸化炭素を溶解した水中でPFAフィルムをArFレーザー光照射(208J/cm $^{2}$ )すると、PFAフィルムの水に対する接触角は未照射の時の106度から34度まで著しく減少し、親水性が大幅に改善できることを見い出した。照射によりPFA表面の元素比O/Cは未照射の場合に比べて4倍に増加するが、一方F/Cは1/3に減少した。なお、酸素を溶解した水中及び大気中でArFレーザー光を照射しても、親水性はほとんど改善されなかった。これらの結果から、PFAフィルムの親水性の改善には、フィルム表面のF原子の脱離およびカルボニル基のような極性基の生成が大きく関与していることが明らかになった。

論文

Surface chemical reactions of Al induced by low-energy D $_{2+}$ , N $_{2+}$ , CO $^{+}$ , and CO $_{2+}$ ion bombardment

永井士郎

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 59-60, p.936 - 939, 1991/00

https://doi.org/10.1016/0168-583X(91)95736-W

被引用回数：3 パーセンタイル：50.32(Instruments & Instrumentation)

アルミニウム表面に対する0.5~4keVのD $_{2+}$ 、N $_{2+}$ 、CO $^{+}$ 、及びCO $_{2+}$ イオンの衝撃による化学反応をオージェ電子分光法及び2次イオン質量分析法により追跡した。アルミニウム箔のD $_{2+}$ イオン衝撃により、AlD $^{+}$ 、AlD $_{2+}$ 及びAl $_{2}$ D $^{+}$ が生成した。これら2次イオンはD $_{2}$ 雰囲気でのAr $^{+}$ イオン衝撃によっても生成した。2次イオン収量の経時変化及び衝撃雰囲気・温度依存性から、これら2次イオンの生成は、D $_{2+}$ イオンによる逐次表面化学反応から生成するアルミニウム重水素化物に起因するものと結論した。一方、N $_{2+}$ イオン衝撃による窒化アルミニウムの生成量は、N $_{2+}$ イオンのエネルギーに依存した。窒化アルミニウムによって部分的に覆れたアルミニウム表面は酸素との反応性が著しく高いことを見出した。また、CO $_{2+}$ イオンの衝撃によりアルミニウムの炭化物と酸化物が同時に生成するのに対し、CO $^{+}$ イオンの衝撃では炭化物が選択的に生成した。

論文

低エネルギーイオン照射下の表面現象とその評価

山本博之

化学と工業, 43(3), p.377 - 378, 1990/03

低エネルギーイオン照射下での固体表面における化学反応、照射効果等の表面現象、およびその評価に関する留意点等を中心に最近の研究例をまとめた。低エネルギーイオンを固体表面に照射した場合、特に数百eV以下のエネルギー領域では原子撹拌効果は無視し得るほど小さくなり、また表面における特異な選択性を持つ反応を引き起こすことも可能と考えられる。しかしながら、これらの現象は表面数原子層程度の極表面において生ずるために、吸着、不純物、結晶性等種々の影響を受け、その解析が困難であることが少なくない。このような現状をふまえ、最近における研究の成果と諸問題について述べた。

口頭

Surface chemistry experimental station at Soft X-ray beamline (BL23SU) in SPring-8

吉越章隆

no journal, ,

放射光を使ったXPSは、半導体製造プロセスや触媒反応など表面化学反応のリアルタイム観察に強力な手法である。本シンポジウムでは、IV族半導体単結晶表面の酸化機構の研究を例として紹介し、SPring-8の軟X線ビームライン(BL23SU)の表面化学実験ステーションにおける研究活動および潜在的な利用研究への応用の可能性などを議論したい。

口頭

超音速分子ビームによる表面化学反応の放射光光電子分光観察

吉越章隆

no journal, ,

本招待講演では、SPring-8のJAEA専用軟X線ビームラインBL23SUに設置した表面反応解析装置を使った研究を紹介する。超音速分子線により引き起こされる表面反応の放射光リアルタイム光電子分光によるその場観察のいくつかの結果を紹介する。また、分子の並進運動エネルギーを変えることによって露となる表面吸着反応ダイナミクスを紹介する。本手法のナノスケールの表面プロセスの基礎および応用研究における有用性と将来展望を述べる。

口頭

水吸着した二酸化チタン表面の軟X線光電子分光測定

勝部大樹*; 大野真也*; 高柳周平*; 尾島章輝*; 前田元康*; 吉田光*; 西静佳*; 吉越章隆; 阿部真之*

no journal, ,

TiO $_{2}$ は高い光触媒活性を持つことが知られ広く研究されているが、光触媒反応の素過程は理解されていない。本研究では、ルチル型とアナターゼ型の違いを放射光軟X線光電子分光(XPS)を用いて明らかにした。ルチル型の方が高結合エネルギー側のOH成分が観察されることから、水吸着に対してルチル型の方が反応性が高いことが示唆された。

発表形式

掲載資料名

発表会議名

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発行年

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Interface atom mobility and charge transfer effects on CuO and Cu $_{2}$ O formation on Cu $_{3}$ Pd(111) and Cu $_{3}$ Pt(111)

Synchrotron radiation photoelectron spectroscopy study on oxides formed at Ge(100)21 surface in atmosphere

放射光時分割X線光電子分光法と超音速酸素分子ビームを組み合わせた表面反応のダイナミクス研究への応用

Initial oxidation states on Si(001) surface induced by translational kinetic energy of O $_{2}$ at room temperature studied by Si-2p core-level spectroscopy using synchrotron radiation

Adsorbate-substrate interaction in photofragmentation of trimethylsilylfluoride (Si(CH $_{3}$ ) $_{3}$ F) physisorbed on Cu(111) following Si K-Shell excitation

A SIMS study on secondary ion formation during low-enrgy methyl ion beam deposition

Endowment with the wettability on the surface of tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer by excimer laser irradiation

Surface chemical reactions of Al induced by low-energy D $_{2+}$ , N $_{2+}$ , CO $^{+}$ , and CO $_{2+}$ ion bombardment

低エネルギーイオン照射下の表面現象とその評価

Surface chemistry experimental station at Soft X-ray beamline (BL23SU) in SPring-8

超音速分子ビームによる表面化学反応の放射光光電子分光観察

水吸着した二酸化チタン表面の軟X線光電子分光測定